【半導体】SEMI、2017年の半導体フォトマスク販売額は37億ドルと発表

　SEMI（本部：米国カリフォルニア州ミルピタス）は、4月9日（米国時間）、2017年の半導体フォトマスクの世界市場が前年比13％増の37億5,000万ドルとなり、19年には40億ドルに達することが予測されると発表した。フォトマスク市場は、18年には5％、19年には4％の成長がそれぞれ見込まれる。フォトマスク市場をけん引しているのは、45nm未満の微細プロセスであり、地域的には半導体の製造が拡大するアジア太平洋地域。台湾が7年連続で最大市場となり、今回の予測の範囲においても最大市場となることが予測される。また韓国が2位に順位を上げている。
　37億5,000万ドルのフォトマスク販売額は、ウェーハプロセス材料市場の13％を占め、シリコンウェーハとガスに次ぐ大きさとなる。過去との比較では、2003年のウェーハプロセス材料市場に占めるフォトマスクの比率は18％であった。内製マスクショップの重要性はさらに高まり、11年から12年にかけての集中的な設備投資によって、内製マスクショップは外販マスクサプライヤに対して市場シェアの拡大を続けている。全フォトマスク市場における内製マスクショップのシェアは、16年の63％から17年には65％に拡大した。03年のフォトマスク市場に占める内製マスクショップの比率は31％であった。
　このほど発行された2017年版フォトマスクレポートは、2017年のフォトマスク市場のデータを、北米、日本、欧州、台湾、韓国、中国、その他地域に分類して提供する。
　レポートには2003年以降の実績と19年までの予測データが、各地域について収録されており、これまでのリソグラフィ開発の概要も記載されている。